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(SiHCl3)是生产多品硅的原料、工业合成SiHCl320.(12分)三氯氢硅体系中同时存在如下反应;l:Si(g)+3HCl(g)SiHCl3(g)+H2(g)H1=-141.8kJmol^-1反应反应Ⅱ:iSi(g)+4HCl(g)SiCl4(g)+2H2(g)H2反应:SiHCl3(g)+HCl(g)SiCl2(g)+H2(g)H3(2)温度与进料比;比gg[g=n(HCl)n(Si)都会影响SiHCl1,的产率,图甲为573K及不同压强下(%)随的变化情况,图乙为恒容条件下,不同时随温度()的变化情况由图甲可知最合适的进料比为.随着进料比的增大.SiHCl,产率先增大后减小的原因是。根据图乙分析g=3时、随温度升高连渐减小的原因是g=4和g=6时,温度升高η逐渐增大的原因是
13.常温下,用0.100mol/LNaOH溶液分别滴定20.00mL0.100mol/L的HX和HY的溶液,滴定曲线如图所示。下列说法正确的是A.Ka(HX)B.水电离出的c(H^+)由大到小的顺序为C>B>AC.B点满足c(Y^-)>c(Na^+)>c(HY)>c(H^+)>c(OH^-)注器(S)D.将HX曲线上的A点与C点所得溶液混合,则存在c(X^-)+c(HX)=)=2c(Na^+)
其反应过程的能量变化如图1所示,下列说法正确的是aA.I^-可以使反应物分子中活化分子百分数增大B.反应①是吸热反应,反应热为E1-E2C.I存在改变了双氧水制氧气的焓变D.步骤②是整个反应的决速步骤E1H反应过程图1
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