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1molN=N、F-F、N-FB11.NF311.NF,是电子工业使用的一种新型蚀刻气体。实验分别测得断裂1molN=N、F-F,N-F所需的能量如图NN=N28mo下列说法错误的是N2化学性质比稳定A.相同条件下,F2B.NF3的能量一定比N2和F2总和高C.N2(g)+3F2(g)2NF3(g)H=-287kJmol^-1裂化学键需要吸收能量,则形成化学键一定放出能量D.断
(6)Na2S2O3xH2O中x为。
14.常温下,分别向体积和pH相等的NaA和NaB溶液中通入HCl气体,溶液中pHpX(A^-B^-与pX(A和B浓度的负对数)的变化关系如图所示。下列说法错误的是A.Ka(HA)>Ka(HB)B.c(Na^+):a>bC.a、b两点对应溶液中:c(B^-)+c(HB)=c(HA)+c(A^-)D.水的电离程度::c>a=bpH7bNaBNNaAp
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