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试题答案

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9.下列有关离子方程式书写正确的是A.Fe2(SO4)3,溶液中加入足量Ba(OH)2溶液:2Fe^3++3SO4^2-+3Ba^2++6OH^-2Fe(OH)3+3BaSO4B.向饱和Na2CO3溶液中通入过量CO2气体:CO3^2-+H2O+CO22HCO3^-C少量SO2气体通入Ca(ClO)2溶液中:Ca^2++ClO^-+SO2+H2OCaSO4+Cl^-+2H^-D.向Mg(HCO3)2溶液中加入过量澄清石灰水:Mg^2++2HCO3^-+Ca^2++2OH^-MgCO3+CaCO3+2H2O

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10.硅在地壳中含量仅次于氧元素,其单质除了用作重要的半导体材料外,还可用于测定阿伏加德罗常数的精确值。下列关于硅及其化合物的说法正确的是A.晶体硅的熔点为1683K,是因为硅的相对原子质量较大B.自然界中的硅元素多以SiO2或SiO4^4-的形式存在,其中都含有“硅氧四面体”

10.25^C时,用0.1000molL^-1NaOH溶液滴定10.00mL0.1000molL^-1H2R溶液,溶液中含R物种的分布系数δ随滴加NaOH溶液体积VNaOH的变化关系如图所示「已知分布系数指某含R物种的物质的量浓度与含R物种物质的量浓度之和的比值,溶液体积可以相加]。下列说法正确的是1.VNaOH/mLA.H2R的第一步电离方程式为H2RHR^-+H^+B.H2R的第二步电离常数的数量级为10^-1C.该滴定不能用酚酞指示滴定终点D.Q点加入VNaOH近似表示为2=3-20Ki2(H2R)R2I2R+0…mL

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