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(5)实验结束,锥形瓶中产品经提纯后得到150mL高纯AsCl3,AsCl3的产率为90.92.2%(结果保留一位小数)。75+35.5065181.5
(4)①实验2中硫酸铜电镀液中加入过量氨水比实验1中不加氨水形成的镀层更致密,其原因是②随着阴极析出Cu,实验2中Cu²+4NH·HO—[Cu(NH))]+4HO平衡不移Cu^2++4NH3H2O[uC(NH3)4)]^2++4H2O动,理由是
14.25^C时,用HCl气体调节0.1molL^-1甲胺水溶液的pH,体系中粒子浓度的对数值(lgc)、反应物的物质的量之比n(HCl)n(CH3NH2)与pH的关系如图所示。(已知:忽略通人气体后溶液体积的变化,甲胺相当于一元弱碱;.lg2≈0.3)下列说法中错误的是A.25^C时,甲胺水溶液的电离平衡常数约为410^-4B.随着HCl的通入,溶液的导电性逐渐增强C.n(HCl)n(CH3NH2)=0.5时,2c(H^+)+c(CH3NH3^+)=c(CH3NH2)+2c(OH^-)D.D.b点所示溶液:c(CHNH)<1000c(CHNHz):(CH3NH3^+)<1000c(CH3NH2)
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